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全面曝光源
我们的 500 W 和 1000 W 全面曝光源涵盖近紫外光 (350 - 450 nm)、中紫外光 (260 - 320 nm) 和深紫外光 (220 - 260 nm)。NUV 经过专门设计，可曝光大部分光刻胶；MUV 用于聚合物交联以及新型光刻胶；DUV 用于深紫外光研究。我们的照明器可辐照 2.13 x 2.13 到 10 x 10 英寸的样品。 高强度输出 强度分布均匀的大面积准直光束 高效带外抑制 定时曝光
* 详情请咨询010-84164680 sales@tgseic.com
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